项目描述
这座国家战争纪念碑位于印度首都德里市中心的印度门附近，占地40英亩，是由Yogesh Chandrahasan和WeBe Design Lab设计，由印度政府于2018-2019年度建造的，以纪念印度武装部队。纪念碑的设计包括四个同心圆（永生圆，英勇圆，牺牲圆，保护圆），围绕着一座带有永恒火焰的方尖碑。
纪念碑上刻着自1947年印度独立以来在国家冲突和军事行动中牺牲的武装部队人员的名字。
国家战争纪念碑地下设有大型水箱，用于收集和储存水。水箱、喷泉、纪念碑基座和其它混凝土结构均需要有效的防水解决方案。
该项目耗资2400万美元，于2019年2月25日正式落成。
使用的产品
与项目顾问详细讨论之后，最终选择澎内传结晶型防水系统方案替代最初指定的APP卷材，采用澎内传防水涂料PNC401（PENETRON），澎内传干撒粉PNC501（PENETRON PLUS）和澎内传快速膨胀型止水条PNC102（PENEBAR SW-45）为混凝土结构提供防水保护，处理面积约5万平方米。
