项目描述
这个国家战争纪念馆由印度政府于2018-19年建造，以纪念印度武装部队。它由Yogesh Chandrahasan和WeBe设计实验室设计，坐落在印度首都德里市中心印度门附近的16公顷土地上。纪念馆的设计包括四个同心圆（不朽之圈，勇敢之圈，牺牲之圈，保护圈），周围环绕着带有永恒火焰的方尖碑。纪念墙上刻有自1947年独立以来在该国冲突和军事行动中丧生的印度武装部队人员的名字。
使用的产品
国家战争纪念馆设有大型地下水箱，用于收集和储存水。在与项目顾问详细讨论后，最初指定的APP膜被替换为澎内传结晶溶液，以使用澎内传防水涂料PNC401（PENETRON）、澎内传快速堵漏剂PNC602（PENEPLUG）、澎内传缓慢膨胀型止水条PNC101（PENEBAR SW-55）的组合局部处理约60045平方米的混凝土表面。
